arXiv:2505.07576v1 声明类型: cross 摘要: 半导体制造是一个复杂且多阶段的过程。扫描电子显微镜（SEM）图像的自动视觉检测对于减少设备停机时间和控制成本至关重要。大多数之前的研究所考虑的是监督方法，假设有足够的异常标记样本。相反，视觉异常检测（VAD）作为一个新兴的研究领域，侧重于无监督学习，避免了昂贵的缺陷收集阶段，同时还提供了预测的解释。我们通过利用MIIC数据集引入了一个半导体领域的VAD基准。我们的结果表明，现代VAD方法在这种领域中的有效性。